Plasma Chemistry and Plasma Processing
ISSN 0272-4324, 1572-8986 · Springer New York
Plasma Chemistry and Plasma Processing tidak terakreditasi Sinta (Sinta hanya mengakreditasi jurnal Indonesia) dan terindeks Scopus dengan kuartil terbaik Q2 (SCImago 2025).
Peringkat dan informasi jurnal
- Akreditasi Sinta
- Tidak berlaku (jurnal luar negeri)
- Scopus
- Terindeks, kuartil terbaik Q2
- SJR 2025
- 0,585
- H-index (SCImago)
- 89
- Cakupan Scopus
- 1981–2026
- ISSN
- 0272-4324, 1572-8986
- Penerbit
- Springer New York
- Negara
- United States
- Biaya publikasi (APC)
- USD 3.790 · sumber: OpenAlex
Kategori dan kuartil Scopus
- Chemical Engineering (miscellaneous)Q2
- Chemistry (miscellaneous)Q2
- Condensed Matter PhysicsQ2
- Surfaces, Coatings and FilmsQ2
Kuartil per kategori dari SCImago Journal Rank 2025. Kuartil terbaik dipakai sebagai peringkat utama.
Cakupan (focus and scope)
Cakupan jurnal ini belum tercatat di data kami. Baca bagian Focus and Scope di situs jurnal sebelum mengirim naskah.
Pertanyaan umum
Apakah Plasma Chemistry and Plasma Processing terakreditasi Sinta?
Plasma Chemistry and Plasma Processing tidak terakreditasi Sinta (Sinta hanya mengakreditasi jurnal Indonesia).
Apakah Plasma Chemistry and Plasma Processing terindeks Scopus?
Plasma Chemistry and Plasma Processing terindeks Scopus dengan kuartil terbaik Q2 (SCImago 2025).
Berapa biaya publikasi (APC) di Plasma Chemistry and Plasma Processing?
USD 3.790 (sumber: OpenAlex). Biaya bisa berubah; pastikan di situs jurnal sebelum mengirim naskah.
Sumber data: SCImago Journal Rank 2025, Scopus Source List Agustus 2026, OpenAlex. Peringkat dan status bisa berubah; pastikan di situs resmi sebelum mengirim naskah.